异质结构量子材料与先进谱学

　　致力于为“未来芯片”提供重要材料和物理基础，主要方向为新型异质结构量子材料研究，包括新型量子界面的设计，利用先进物理气相沉积技术（off-axis sputter，laser-MBE）实现异质结的原子级构筑，利用依托同步辐射等大科学装置的先进X-射线谱学技术（XAS/XLD/XMCD，RIXS，IXS等）实现晶格-电荷-轨道-自旋的多自由度表征，进而推动原型量子器件的发展。